在電鍍中一般的電鍍工藝電流效率在70%～99%之間，而目前生產中使用的鍍鉻工藝則電流效率很低，一般只有10%～25%，所以有很大的發(fā)展?jié)摿Γ僬咤冦t的應用十分廣泛。因此，對鍍鉻的研究開發(fā)具有重要意義和良好的前景。
近年來鍍鉻添加劑的研究圍繞著解決鍍鉻的電流效率低、環(huán)境污染嚴重、消耗量大、鍍液的覆蓋能力差等問題而展開．熱點是稀土陽離子添加劑、有機陰離子添加劑及復合型添加劑的研究，并且已經取得了較大的進展。如CS型、RI-3C、CF-20l、HC-1、HEEF25、CH系列添加劑Atotech 公司的HCR840等都已進入生產階段。超快速鍍鉻工藝HEEF-Fc采用高電流效率和高電流密度的方法使其鍍速為普通鍍鉻的10倍，但對設備的要求也更嚴格。
綜合以上對添加劑的作用分析，可以看到，有機陰離子及復合型添加劑有很大的開發(fā)潛力，深入理解添加劑的作用機理，結合生產實踐探索新型高效節(jié)能的環(huán)保型添加劑是電鍍工作者面臨的緊迫任務。